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경제플러스

에스앤에스텍 기업 매출 현황 및 전망

by 디노지니 2024. 2. 22.

 

오늘은 에스앤에스텍 기업에 대해 포스팅하고자 합니다. 요즘 반도체 업황이 턴어라운드 하면서 반도체 업황에 대한 기대감이 모아지고 있습니다. 물론 AI 기술에 대한 기대로 AI 관련 반도체 분야가 두드러지고 있지만, 반도체 전반에 대한 기대감도 높은 편입니다. 그래서 반도체 관련 기업에 대해 공부를 하면서 에스앤에스텍 기업에 대해 관심을 가지게 되어 기업 관련 정보를 살펴보려 합니다.

 

 

에스앤에스텍 기업 개요

 

에스앤에스텍은 블랭크 마스크(Blank Mask)를 개발, 공급을 주요 사업으로 하며 2001년에 설립된 회사입니다. 전체 매출의 96%가 블랭크 마스크로 에스앤에스텍의 주요 제품이라 할 수 있습니다. 

 

블랭크 마스크는 반도체와 디스플레이 제작 공정 중에 핵심 원재료입니다. 반도체 및 TFT LCD 생산에 쓰이는, 노광 공정의 핵심 재료인 포토마스크의 원재료로써 패턴이 노광 되기 전 마스크입니다.

 

이전에는 일본 업체가 반도체용 블랭크 마스크의 대부분을 공급하는 상황이었습니다. 에스앤에스텍은 2001년에 설립되어 꾸준히 기술 개발과 제조에 힘써 현재 매출액과 영업이익이 모두 성장하면서 시장을 확대해나가고 있습니다. 현재는 주력 제품인 블랭크 마스크는 일본 업체들의 독과점 시장에서 서서히 점유율을 높이고 있는 상황입니다. 

 

 

에스앤에스택 매출 현황

 

2018년 이래로 연매출 19.3%의 매출 성장을 지속하고 있으며, 2022년 1,235억 매출을 달성하였습니다. 앞으로도 반도체 부문에서 하이엔드 수요가, 디스플레이 부문의 경우 OLED 중심으로 수요가 확대될 것으로 보입니다. 해외 시장의 경우 중국 패널업체와 파운드리의 수요가 증가할 것으로 예상됩니다. 

 

2023년 매출액은 1,455억으로 전년 대비 17.8% 성장하였습니다. 영업이익은 245억으로 53.1% 성장하였습니다. 이러한 실적 성장은 디스플레이 관련 매출 증가에 따른 것으로 보고 있습니다. 최근 디스플레이 산업은 위축되어 있지만, OLED를 중심으로 각종 산업에서 채택되면서 관련 매출이 늘어난 것으로 알려져 있습니다. 에스앤에스택의 디스플레이 매출 비중은 65~70% 정도라 합니다. 

 

 

에스앤에스택 기업의 최근 3년간 재무정보를 담은 데이터 사진입니다.
에스앤에스텍 재무정보 / 출처 : 네이버증권

 

 

 

에스앤에스텍 주요 제품 : 블랭크 마스크

 

블랭크 마스크는 포토마스크의 원재료로 패턴을 형상화하기 전의 마스크를 의미하며 아래 2가지로 구분할 수 있습니다.

 

1. 메모리 및 시스템 LSI 등 반도체 소자 제조를 위한 반도체용 블랭크 마스크

- 6 x 6 inch인 석영기판 위에 수십에서 수백나노의 두께를 가지는 금속 차광막과 반사방지막이 증착된 후 그 위에 감광액이 도포된 구조를 지닙니다. 반도체용 블랭크 마스크를 이용하여 노광, 현상 및 검사와 같은 일련의 공정을 통해 포토마스크를 제조한 후 반도체 공정에 투입되어 대량의 반도체 소자를 생산하게 됩니다.

 

에스앤에스텍 기업의 주요제품인 반도체용 블랭크마스크에 세부 제품에 관한 자료 사진입니다.
에스앤에스텍 주요제품 : 반도체용 블랭크마스크 / 출처 : 기업홈페이지

 

2. 디스플레이 패널(LCD 및 OLED) 제조를 위한 FPD(Flat Panel Display)용 블랭크 마스크

- FPD용 블랭크 마스크는 디스플레이 최종 제품에 따라 다양한 크기로 만들어집니다. 최종 제품의 크기가 커질수록, 상대적으로 많은 패널이 필요하게 되며 이때 원가 절감 및 생산효율성 증대를 위해 더 큰 크기의 FPD용 포토마스크 및 블랭크 마스크가 필요하게 됩니다. 이러한 FPD용 블랭크 마스크를 통해 제작된 포토마스크를 이용하여 TV, 모니터, 스마트폰과 같은 다양한 크기의 디스플레이용 패널 제작이 가능하게 됩니다. 

 

 

에스앤에스텍 기업 전망

 

에스앤에스텍은 최근 펠리클을 개발하며 신기술 개발에도 성과를 보이고 있습니다. 2021년 투과율 90%, 지난해 3월에는 투과율 91%의 극자외선(EUV) 펠리클을 개발하였습니다. EUV는 광원 손실이 큰 특성을 지니고 있어 투과율이 최소 90%는 넘어야 합니다. 이러한 기술은 현재 일본의 소수 기업만이 가능한 정도라 합니다.

 

에스앤에스텍은 EUV 펠리클 양산을 목표로 대구 공장에 EUV 초도 양산 설비를 구축하였습니다. 또한 올해 경기도 용인에는 200억을 투자해 신공장 완공을 목표로 하고 있습니다. 또한, System LSI, LCD, OLED 등 국내 고부가가치 확대와 중국 패널업체 전방 산업 투자 확대에 대응하여 제품 및 고객 확대 위해 노력하고 있습니다. 

 

 

마무리

 

앞으로 반도체 및 디스플레이 공정의 미세화, 고도화 추세에 따라 고품질의 반도체 소자 및 디스플레이 패널 제조를 위해 원천재료인 블랭크 마스크의 중요성이 더욱 부각되고 있는 상황입니다. 차세대 반도체 노광 기술(EUV Lithography)을 위한 소재기술의 개발 및 양산화를 위해서도 최선의 노력을 다하고 있는 에스앤에스텍의 선전을 기대합니다. 

 

오늘 포스팅은 여기까지 입니다. 감사합니다.